膜厚測量儀的系統包括以下的幾部分

　　隨著微型計算機多媒體技術的發展和普及，光學薄膜在液晶顯示屏，CRT顯示器等方面廣泛應用。為了提高光學薄膜的生產效率和改善產品質量有必要逐步導入人工智能鍍膜新技術。膜厚測量儀適用于nm及um級薄膜厚度測量，測量的空間分辨率(測量點的大小)可達10um，厚度測量準確度為nm級。
 

　　工作原理：
 

　　物質在被一定波長的X射線照射時，元素將處于激發狀態而發射出光子，形成一種特征X 熒光射線。每一種元素的能量都是一一對應的，探測 器在接收到元素的特征X熒光射線之后，可以通過其中的光子能量進行定性分析，還可通過其中的光子量值進行定量分析。
 

　　膜厚測量儀對樣品進行非接觸式、無損、高精度測量，可測量反射率、顏色、膜厚等參數。可應用于光伏、半導體材料、高分子材料等薄膜層的厚度測量，在半導體、太陽能、液晶面板和光學行業以及科研所和高校都得到廣泛的應用。
 

　　這里所指的人工智能鍍膜的含意，就是指在沒有鍍膜專家的情況下，也能按照zhi定的光學特性，實現自動鍍膜。一般來說，這樣的系統包括以下的幾部分。
 

　　(1)針對鍍膜機系統，建立鍍膜條件及薄膜的光學常數的數據庫；
 

　　(2)薄膜的設計及合成；
 

　　(3)鍍膜的仿真，考慮薄膜的折射率及膜厚的影響；
 

　　(4)求出鍍膜條及膜厚控制的數據；(5)實際鍍膜，測出各層的膜厚及折射，再做設計；
 

　　(6)產品的性能測試。